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改性白炭黑胶体磨、改进型高***炭黑胶体磨

改性白炭黑胶体磨、改进型高***炭黑胶体磨

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  • 发货地:上海 松江区
  • 发货期限:不限
  • 供货总量: 10台
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  • 研磨分散机,乳化机,均质机,成套设备

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  • 联系人:
    李先生
  • 职   位:
    销售工程师
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    𐁣𐁤𐁥𐁣𐁦𐁧𐁥𐁧𐁤𐁤𐁨
  • 地   址:
    上海 上海 松江区 九新公路865号B幢101室
品牌:IKN型号:CMD2000工作方式:高速***研磨机
类型:专用研磨机

改性白炭黑胶体磨、改进型高***炭黑胶体磨详细介绍

白炭黑的表面改性就是利用一定的化学物质通过一定的工艺方法使其与白炭黑表面上的羟基发生反应,消除或减少表面硅醇基的量,接枝或包覆其他化学物质,使产品由亲水性变为疏水,以达到改变表面性质的目的。
主要改性方法如下:
(1)表面活性剂改性:采用钛酸酯偶联剂、硬脂酸或硬脂酸盐等覆盖在粒子表面,改变粒子的部分性能;
(2)硅烷偶联改性:采用有机基团取代白炭黑的表面羟基,使其有机硅烷化。
(3)包覆改性:在粒子周围均匀地包覆一层其它物质的膜。

只有将白炭黑粒径充分细化后,才能更好的将白炭黑的表面改性, 利用一定的化学物质通过一定的工艺方法使其与白炭黑表面上的羟基发生反应,消除或减少表面硅醇基的量,接枝或包覆其他化学物质,使产品由亲水性变为疏水,以达到改变表面性质的目的


CMD2000系列研磨分散设备特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
***级级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要


型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

3000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

8000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

20000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

6O000

1100

23

110

DN200/DN150








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